I. Cyn-driniaeth: Amcan craidd y broses cyn-driniaeth allweddol ar gyfer sicrhau adlyniad yr haen cotio yw tynnu staeniau olew, graddfeydd ocsid ac amhureddau o wyneb yr aloi titaniwm yn drylwyr, gan sicrhau arwyneb sylfaen glân ac unffurf ar gyfer ffurfio ffilm ddilynol. Mae'r cam hwn yn cynnwys tri cham allweddol: diseimio, golchi asid, a golchi dŵr. Mae ansawdd y cyn-driniaeth yn effeithio'n uniongyrchol ar ddwysedd ac adlyniad y ffilm ocsid, ac mae'n rhan anhepgor o'r broses Diseimio - diseimio alcalïaidd: Defnyddiwch hydoddiant cymysg o sodiwm hydrocsid a sodiwm carbonad (crynodiad 5% - 10%), gan socian ar 50 - 80 gradd am 50 - 80 gradd. Mae'r dull hwn yn addas ar gyfer darnau gwaith â staeniau olew ysgafn ac mae ganddo weithrediad cost isel a syml. Diseimio ultrasonic toddyddion organig: Gan ddefnyddio aseton neu ethanol fel y cyfrwng, mae glanhau ultrasonic am 5 - 10 munud yn addas ar gyfer darnau gwaith gyda staeniau olew trwm neu strwythurau cymhleth. Gall effaith cavitation ultrasonic dreiddio micro-mandyllau a holltau, gan wella effeithlonrwydd glanhau. Adroddodd Titanium House fod menter cydran awyrofod wedi optimeiddio'r paramedrau diseimio ultrasonic, gan gynyddu cyfradd cydymffurfio glanhau ar gyfer gweithfannau strwythur cymhleth i 98% . 2. Golchi asid - Defnyddiwch hydoddiant asid cymysg o asid hydrofluorig ac asid nitrig (cymhareb cyfaint tua 1:-:5) ar dymheredd ystafell am 1 - 5 munud. Gall asid hydrofluorig doddi'r graddfeydd ocsid ar yr wyneb yn gyflym, tra bod asid nitrig yn atal rhydu'r sylfaen yn ormodol gan yr hydoddiant asid nes bod wyneb y darn gwaith yn cyflwyno llewyrch metelaidd llwyd arian unffurf. Rhaid rheoli'r amser golchi asid yn llym er mwyn osgoi mwy o garwedd arwyneb oherwydd gor-cyrydiad. Mae sefydlogrwydd y broses golchi asid yn hanfodol ar gyfer unffurfiaeth yr haen ffilm. Gostyngodd gwneuthurwr offer cemegol gyfradd namau golchi asid i lai na 0.5% trwy gyflwyno system monitro crynodiad ar-lein . 3. Golchi dŵr - Ar ôl diseimio a golchi asid, rinsiwch â dŵr tap a dŵr wedi'i ddad-ïoneiddio yn olynol er mwyn osgoi halogi'r electrolyte dilynol gan gemegau gweddilliol. Gall golchi dŵr annigonol arwain at ffurfio ffilm anwastad neu ddiffygion haen ffilm. Rydym wedi gwella effeithlonrwydd golchi dŵr trwy fabwysiadu technoleg rinsio llif cownter aml-gam, gan gynyddu'r effeithlonrwydd 30% tra'n lleihau'r defnydd o ddŵr.
II. Ocsidiad Anodig: Mae'r broses cotio graidd o ocsidiad anodig yn sicrhau rheolaeth fanwl gywir dros drwch, lliw a pherfformiad yr haen cotio trwy reoleiddio cyfansoddiad yr electrolyte a pharamedrau proses. Mae'r cam hwn yn cynnwys tair rhan: clampio a chysylltiad cylched, dewis electrolyte, a rheoli paramedr proses. Rheolaeth mireinio'r broses ocsideiddio anodig yw'r allwedd i wella perfformiad yr haen cotio . 1. Clampio a Chysylltiad Cylchdaith: Defnyddir y darn gwaith aloi titaniwm wedi'i lanhau fel yr anod, a dewisir platiau dur di-staen neu blatiau graffit (gydag ardal catod yn nodweddiadol 1.5 i 2 gwaith yr anod) fel y catod. Mae'r ddau electrod yn cael eu gosod yn gyfochrog â bylchiad o 10 i 30 centimetr. Mae dull clampio rhesymol yn sicrhau dosbarthiad cerrynt unffurf ac yn osgoi gorgynhesu lleol neu orchudd anwastad. Gwnaeth gwneuthurwr cydrannau modurol optimeiddio dyluniad y gosodiad clampio, gan gynyddu unffurfiaeth y dwysedd presennol ar gyfer darnau gwaith mawr i dros 95% . 2. Detholiad Electrolyte: Yn seiliedig ar ofynion y cais, dewiswch y math o electrolyt: Math o asid sylffwrig: 10% i 20% hydoddiant dŵr asid sylffwrig, sy'n ffurfio haen cotio cyflym heb liw na thryloywder. Math o asid oxalig: 2% i 5% o hydoddiant dŵr asid oxalig, a all newid lliw yr haen cotio (melyn euraidd → glas → gwyrdd → porffor) trwy reoleiddio foltedd, sy'n addas ar gyfer cydrannau addurnol neu awyrofod. Math o asid cromiwm ffosfforig: Mae gan yr haen cotio ymwrthedd cyrydiad rhagorol ac mae'n addas ar gyfer amgylcheddau garw fel diwydiannau morol a chemegol. Gall mân addasiadau i gyfansoddiad yr electrolyt effeithio'n sylweddol ar berfformiad yr haen cotio. Er enghraifft, cynyddodd gwneuthurwr offer cefnforol amser ymwrthedd cyrydiad chwistrellu halen yr haen cotio i dros 2000 awr trwy ychwanegu symiau hybrin o elfennau daear prin at yr electrolyte asid cromiwm ffosfforig. 3. Rheoli Paramedr Proses: Foltedd: y gellir ei addasu o 5 i 100V. Mae foltedd isel (fel 10 i 20V) yn addas ar gyfer cotio haen denau, tra gall foltedd uchel (fel 60 i 100V) gynyddu trwch yr haen cotio ond mae angen atal abladiad. Tymheredd: 10 i 35 gradd. Bydd tymheredd gormodol yn cyflymu diddymiad yr haen cotio, tra bydd tymheredd rhy isel yn arwain at gyflymder cotio araf a gorchuddio anwastad. Amser: 10 i 60 munud. Mae gormod o amser yn debygol o achosi'r haen cotio i gracio, a bydd y twf trwch yn tueddu i ddirlawn. Dwysedd presennol: 0.5 i 2A/dm². Mae dwysedd cerrynt gormodol yn debygol o achosi gorboethi ac abladiad lleol, ac mae angen addasu'r rheolaeth tymheredd ar yr un pryd i osgoi abladiad. Yn yr electrolyte asid oxalig, gall cynyddu'r dwysedd presennol o 1A / dm² i 1.5A / dm² gynyddu cyfradd twf yr haen cotio 40%, ond mae angen optimeiddio'r rheolaeth tymheredd ar yr un pryd i osgoi abladiad.
III. Triniaeth ar ôl-: Gwella Perfformiad Haen Ffilm Mae'r broses ôl-driniaeth ar gyfer gwella perfformiad yr haen ffilm yn cynnwys llenwi mandyllau'r ffilm ocsid i wella ymwrthedd cyrydiad a gwrthsefyll traul, ac atal afliwiad yr haen ffilm. Mae'r cam hwn yn cynnwys tri cham: golchi dŵr, trin selio, a sychu. Post{5}}triniaeth yw'r rhwystr olaf ar gyfer gwella perfformiad ymarferol yr haen ffilm. 1. Ar ôl i'r broses ocsideiddio gael ei chwblhau, rinsiwch wyneb y darn gwaith ar unwaith gyda dŵr wedi'i ddad-ïoneiddio i gael gwared ar unrhyw electrolyte gweddilliol a'i atal rhag achosi cyrydiad i'r haen ffilm . 2. Triniaeth selio: Trochi'r darn gwaith mewn 90{{20} o ddyfroedd am 90- defnyddio dŵr i 10 gradd {0} yr adwaith hydradu i lenwi'r mandyllau. Mae'r dull hwn yn syml i'w weithredu ac mae ganddo gost isel. Selio toddiant halen: Gall defnyddio datrysiad selio sy'n cynnwys halen nicel neu halen cobalt wella'r effaith selio ymhellach ac mae'n addas ar gyfer cydrannau â gofynion ymwrthedd cyrydiad uchel. Darganfu gwneuthurwr cydrannau electronig trwy arbrofion cymharol y gall y driniaeth selio hydoddiant halen leihau ongl gyswllt yr haen ffilm i lai na 15 gradd, gan wella hydrophilicity yn sylweddol a chwrdd â gofynion cymhwysiad penodol Sychu: Rhowch y darn gwaith wedi'i selio mewn popty 60-80 gradd i'w sychu am 10- 15 munud, neu ganiatáu iddo sychu'n naturiol ar dymheredd yr ystafell. Mae angen osgoi lleithder gweddilliol gan achosi i'r haen ffilm droi'n felyn ac atal tymheredd uchel rhag achosi straen cracio'r haen ffilm. Gostyngodd gwneuthurwr offeryn manwl gyfradd cracio'r haen ffilm i lai na 0.1% trwy fabwysiadu proses sychu graddiant tymheredd isel. Casgliad: Gall y broses anodizing aloi titaniwm wella'n sylweddol berfformiad wyneb y deunydd trwy rag-driniaeth systematig, rheolaeth anodizing manwl gywir, ac ôl-driniaeth wyddonol, gan fodloni gofynion cymhwyso gwahanol feysydd. Mewn cynhyrchu gwirioneddol, mae angen optimeiddio paramedrau proses yn seiliedig ar ddeunydd, siâp ac amgylchedd defnydd y darn gwaith i sicrhau ansawdd haen ffilm sefydlog a dibynadwy. Gyda datblygiad gwyddoniaeth deunyddiau a thechnoleg electrocemegol, bydd y broses anodizing aloi titaniwm yn datblygu tuag at gywirdeb uwch, cost is, a mwy o gyfeillgarwch amgylcheddol, gan ddarparu cefnogaeth dechnegol gryfach ar gyfer y maes gweithgynhyrchu pen uchel.