Targed titaniwm

Burdeb
Purdeb yw un o brif ddangosyddion perfformiad y targed, oherwydd mae purdeb y targed yn cael dylanwad mawr ar berfformiad y ffilm . Fodd bynnag, mewn cymwysiadau ymarferol, nid yw'r gofynion purdeb ar gyfer y targed yr un . O 0 . 5um i 0 . 25um, 0.18um neu hyd yn oed 0.13um, a gall y purdeb targed blaenorol 99.995% fodloni gofynion y broses o 0.35umig.
Cynnwys amhuredd
Impurities in target solids and oxygen and water vapor in pores are the main pollution sources of deposited films. Targets for different purposes have different requirements for different impurity content. For example, pure aluminum and aluminum alloy targets used in the semiconductor industry have special requirements for alkali metal content and radioactive element Cynnwys .
Ddwysedd
Er mwyn lleihau'r mandylledd yn y targed yn solid a gwella perfformiad y ffilm sputtered, fel rheol mae'n ofynnol i'r targed fod â dwysedd uchel . Mae dwysedd y targed nid yn unig yn effeithio ar y gyfradd sputtering, ond hefyd yn effeithio Mae cynyddu dwysedd a chryfder y targed yn gwneud y targed yn gallu gwrthsefyll y straen thermol yn well yn ystod sputtering . Mae dwysedd hefyd yn un o fynegeion perfformiad allweddol y deunydd targed .